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Patentgesetz. Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz. Von Georg Benkard
ISBN 978-3-406-72789-4 239,00 € Portofrei Bestellen
Vorteile auf einen Blick
Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
Erstellt: 07.11.2015 - 14:43 | Geändert: 16.09.2023 - 09:08